国内光刻机的发展,国产光刻机的现状究竟如何?

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国产光刻机现在的水平其实并没有达到世界最先进水平,我们现在的光刻机技术属于第三级别,世界上最先进的光刻机是荷兰生产的万国牌光刻机,为什么叫做万国牌呢,其实就是因为这个光刻机是多国顶尖科技结合的结果,并不是荷兰自己单独有能力研制的,五万多的部件其中95%来自世界上多个国家,荷兰只是把这些东西进行无缝连接的组装起来,所以叫做万国牌光刻机国内光刻机的发展。

虽然是万国牌,但是却是世界上最先进的光刻机没有之一,可以生产达到七纳米级别的芯片,这是世界上绝无仅有的,而且现在已经成功的研制出来五纳米技术的光刻机,正在进行最后的测试然后正式进行商业运用,所以说荷兰的这个光刻机是最顶级的独自一档的存在,没有比肩者,甚至连接近者目前都不存在。

第二档次是日本和美国研制的光刻机,水平达到了14纳米级别的运用,这个级别已经是目前美国和日本的极限,至少现在美国和日本已经放弃了进一步自己研发更先进光刻机的打算,加入了跟其他国家一起入股荷兰光刻机的行列,成为了其中的一份子,荷兰光刻机的成功离不开美国德国和日本科技配件方面的支持,也足以说明了光刻机的难度有多大。

接下来就是我们的最新突破的光刻机,二十纳米级别的,目前正在研发实验提升到十四纳米级别的,只不过现在还没有正式成功,而且还只是在实验室里面,根本还没有正式拿出来进行实用生产,所以我们的十四纳米其实就是一个目标概念,还没有真正的达到,但是二十纳米其实已经达到成功的研制出来,也可以看出来我们还需要努力才行。

我们光刻机研发的进步其实也是因为外在力量的压力给压出来的,美国受益荷兰不允许卖给我们最先进的光刻机,所以我们为了发展自己不受制于人,决定自己研发光刻机,所以在这些年才有了这样的成果,其实有时候被逼的最容易激发自己的潜力,去年荷兰突然不顾美国的立场,宣布出售七纳米级别的光刻机给我们,这个消息让国人高兴了一阵,因为被别人卡芯片脖子的感觉太难受,真正日子马上就要过去了,当然高兴了。

只是刚刚今年十一月得出的消息,荷兰由于顾及美国方面立场的压力,以经宣布暂停售卖光刻机给我们,这个消息很突然,让人措手不及,荷兰方面的说法是顾及美国的立场,但是又说一些话,说自己很重视中国市场,因为中国市场每年给荷兰光刻机公司带来总收入的五分之一的份额,话虽然好听这应该只是安慰说好话而已,想讨好我们又不想得罪美国的一种做法而已,其实还是偏向于美国,对于这种出尔反尔放鸽子的行为我们愤怒也没有,只有自己努力研发突破了才不会受到这种气,现在别人真的这样我们没有办法,因为主动权在对方手中,只有当我们自己拥有强大实力的时候才会真正的掌控主动权,现在还需要知耻后勇的努力才行。

中国能做3纳米的光刻机吗?

一、中国目前的技术在90nm,最先进的ASML也是5nm,3nm无人能造

首先回答问题,那就是不能,目前中国量产的光刻机技术是90nm,90nm之后还有N个台阶,离3nm的差距,至少是10年起步。

中国目前光刻机技术最强的是上海微电子,生产的光刻机还在90nm阶段,处于光刻机技术的最后一档。

如上图所示,中国的SMEE处于低端,也就是90nm,而日本canno也处于这一档,而Nikon处于7-28nm。

而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术,也没有3nm技术,所以现在说3nm真的是太早太早了。

二、光刻机的核心技术是什么,为何这么难?

那么光刻机的核心技术是什么,为何这么难?其实从元件来看,核心元件是镜头,因为光刻机的原理是放大的单反,用光把电路图刻画在硅片上,一次又一次,一层又一层的刻画。

所以核心指标是分辨率、套刻精度,分辨率则是指能够刻画线路图的分辨率,这个就是工艺的节点技术,比如5nm、7nm等。

而套刻精度则是指多次刻画之间的精度,这两项主要是在于组装技术,靠常年累月积累,经验来实现的,这就是ASML的厉害之处,别人拿了它的图纸,它的元件,也未必能够做到的分辨率和套刻精度。

标签: 国能 刻机 纳米

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